Pierwszy układ scalony dzięki EUV
28 lutego 2008, 12:17AMD i IBM poinformowały o wyprodukowaniu pierwszego układu scalonego, który powstał przy użyciu litografii w dalekim ultrafiolecie (extreme ultra-violet – EUV). Technologia ta będzie wykorzystywana za około 8 lat do produkcji układów w procesie technologicznym 22 nanometrów.
TSMC również zainwestuje w ASML
6 sierpnia 2012, 07:32TSMC to kolejny półprzewodnikowy gigant, któremu zależy na przyspieszeniu prac nad sprzętem litograficznym kolejnej generacji. Tajwańskie przedsiębiorstwo ma zamiar zainwestować w ASML 1,4 miliarda dolarów. Już wcześniej inwestycję w wysokości 4 miliardów USD zapowiedział Intel.
Intelowskie 7 nanometrów bez EUV?
17 sierpnia 2016, 10:20Podczas Intel Developer Forum przedstawiciele Intela wyrazili wątpliwości, czy ASML zdąży przygotować technologię ekstremalnie dalekiego ultrafioletu (EUV), by była ona gotowa do masowej produkcji 7-nanometrowych układów scalonych.
Odkryto nową cząstkę subatomową
12 września 2008, 12:19Amerykańskie Fermilab (Fermi National Accelerator Laboratory) poinformowało o zaobserwowaniu nowej subatomowej cząstki. Uczonym udało się odkryć barion Omega b. Składa się on z trzech kwarków, dwóch dziwnych i jednego spodniego.
Na tropie zaginionego władcy
10 września 2012, 18:29Ryszard III zajmuje w historii Anglii miejsce szczególne. Nie tylko był ostatnim władcą z rodu Plantagenetów, ale jest też jedynym królem, którego miejsce pochówku nie jest znane
Pokonali ostatnią przeszkodę. Czas na masową produkcję EUV
14 lipca 2017, 13:21Trwało to dłużej i kosztowało więcej, niż ktokolwiek się spodziewał, ale w końcu prace nad litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) mają się ku końcowi. Podczas targów Semicon West holenderska firma ASML ogłosiła, że udało się jej stworzyć 250-watowe źródło światła dla EUV
Klejenie komórek macierzystych
31 października 2008, 23:37Zastosowanie prostej procedury umożliwia aktywizację komórek macierzystych i ułatwia ich dostarczenie do tkanek, w których są potrzebne. Odkrycie może stać się istotnym udoskonaleniem wielu innych technik związanych z wykorzystaniem tych niezwykłych komórek.
10 nanometrów w zanurzeniu
13 września 2012, 09:44Intel poinformował, że jest w stanie wykorzystać litografię zanurzeniową do produkcji układów scalonych w 10-nanometrowym procesie technologicznym. Wykorzystujące go układy zadebiutują nie wcześniej niż w 2015 roku.
Sprawa seryjnego mordercy: bazy DNA pozwalają na zidentyfikowanie 60% białych w USA
15 października 2018, 09:01Ujęcie seryjnego mordercy nazwanego przez prasę Golden State Killer pokazało, jak przydatnymi narzędziami w rękach policji mogą być ogólnodostępne bazy danych genealogicznych, w których obywatele dobrowolnie pozostawiają próbki DNA. Teraz analizy przeprowadzone przez naukowców wykazały, że już za kilka lat – przynajmniej w USA – przed śledczymi nie ukryje się nikt, kto pozostawił na miejscu przestępstwa swój ślad genetyczny.
Chronicznie zmęczeni przez wirusa?
9 października 2009, 04:48Amerykańscy naukowcy zidentyfikowali możliwą przyczynę tzw. syndromu chronicznego zmęczenia (CFS), tajemniczej choroby objawiającej się, oprócz uporczywego uczucia przemęczenia, m.in. nawracającym bólem stawów i głowy. Jest nią retrowirus, którego nosicielstwo u osób cierpiących na tę przypadłość jest niemal 20-krotnie częstsze, niż u osób zdrowych.
